ପଲିକାର୍ବୋନେଟ୍ (PC) ହେଉଛି ଅଟୋମୋଟିଭ୍ ଲେନ୍ସ, ଉପଭୋକ୍ତା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, ଚଷମା ଏବଂ ସୁରକ୍ଷା ଗିଅରରେ ବ୍ୟବହୃତ ସବୁଠାରୁ ବହୁମୁଖୀ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଥର୍ମୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ସ ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ। ଏହାର ଉଚ୍ଚ ପ୍ରଭାବ ଶକ୍ତି, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସ୍ପଷ୍ଟତା ଏବଂ ଡାଇମେନ୍ସନ୍ ସ୍ଥିରତା ଏହାକୁ ଦାବିଦାର ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ। ତଥାପି, PC ର ଏକ ଜଣାଶୁଣା ଅସୁବିଧା ହେଉଛି ଏହାର ନିମ୍ନ ପୃଷ୍ଠ କଠିନତା, ଯାହା ଖରାପ ସ୍କ୍ରାଚ୍ ଏବଂ ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ନେଇଥାଏ - ବିଶେଷକରି ବାରମ୍ବାର ସମ୍ପର୍କ କିମ୍ବା ଘଷି ହେବା ପରିସ୍ଥିତିରେ।
ତେବେ, ନିର୍ମାତାମାନେ କିପରି PC ର ସ୍ୱଚ୍ଛତା କିମ୍ବା ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକୁ କ୍ଷତି ନ ପହଞ୍ଚାଇ ଏହାର ପୃଷ୍ଠ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବେ? ଆସନ୍ତୁ ଏହି ଚ୍ୟାଲେଞ୍ଜଗୁଡ଼ିକୁ ଦୂର କରିବା ପାଇଁ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ସମାଧାନ ଏବଂ ଶିଳ୍ପ-ବ୍ୟାଧିକୃତ କୌଶଳ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିବା।
ସମାଧାନ: ଉନ୍ନତ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ସହିତ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଉନ୍ନତି ଏବଂ ପୃଷ୍ଠ ସମ୍ପତ୍ତି ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ମିଶ୍ରଣ କରନ୍ତୁ।
୧. ସିଲିକନ୍-ଭିତ୍ତିକ ମିଶ୍ରଣ: ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଲୁବ୍ରିସିଟି
ପଲିକାର୍ବୋନେଟ୍ (PC) ଫର୍ମୁଲେସନରେ ପଲିଡାଇମିଥାଇଲସିଲୋକ୍ସେନ (PDMS) କିମ୍ବା ଡାଉ MB50-001, ୱାକର GENIOPLAST, ଏବଂ SILIKE ସିଲିକନ୍ ମାଷ୍ଟରବ୍ୟାଚ୍ LYSI-413 ଭଳି ଉଚ୍ଚ-କାର୍ୟ୍ୟକ୍ଷମ ସିଲିକନ୍ ଆଡିଟିଭ୍ସକୁ ସାମିଲ କରିବା ଦ୍ୱାରା ସାମଗ୍ରୀର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇପାରିବ। 1-3% ଲୋଡିଂ ସ୍ତରରେ ଏହି ଆଡିଟିଭ୍ସ ବ୍ୟବହାର କରି, ଆପଣ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ଘର୍ଷଣ ଗୁଣାଙ୍କକୁ ହ୍ରାସ କରିପାରିବେ, ଯାହା ସ୍କ୍ରାଚ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ପିନ୍ଧିବା ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଉଭୟକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ।
ମୁଖ୍ୟ ଲାଭ: ପିସି ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଆଡିଟେଭ୍ ଏବଂ ମଡିଫାୟର୍ ଭାବରେ ଏହି ସିଲିକନ୍ ଆଡିଟେଭ୍ କେବଳ ପିସିର ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସ୍ପଷ୍ଟତାକୁ ସଂରକ୍ଷଣ କରେ ନାହିଁ ବରଂ ପୃଷ୍ଠର ଲୁବ୍ରିସିଟିକୁ ମଧ୍ୟ ବୃଦ୍ଧି କରେ। ଏହା ଘୃଣ୍ୟ ସମ୍ପର୍କ ସମୟରେ ପୃଷ୍ଠର କ୍ଷତିରେ ଏକ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ହ୍ରାସ ଆଣିଥାଏ, ଯାହା ଶେଷରେ ଉନ୍ନତ ଉତ୍ପାଦ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଆଡ଼କୁ ନେଇଥାଏ।
ବ୍ୟବହାରିକ ଟିପ୍ସ: ସର୍ବୋତ୍ତମ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରିବା ପାଇଁ, ଟ୍ୱିନ୍-ସ୍କ୍ରୁ ଏକ୍ସଟ୍ରୁଜନ ମାଧ୍ୟମରେ ଉପଯୁକ୍ତ ବିଚ୍ଛିନ୍ନତା ହାସଲ କରିବା ଅତ୍ୟନ୍ତ ଜରୁରୀ, ଯାହା ପର୍ଯ୍ୟାୟ ପୃଥକୀକରଣକୁ ରୋକିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ ଏବଂ ଆଡିଟିଭ୍ସର ଲାଭକୁ ସର୍ବାଧିକ କରିଥାଏ।
ଚେଙ୍ଗଡୁ SILIKE ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କୋ., ଲିମିଟେଡ୍ ହେଉଛି ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଚୀନ୍ ଯୋଗାଣକାରୀପରିବର୍ତ୍ତିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ପାଇଁ ସିଲିକନ୍ ଆଡିଟିଭ୍। କମ୍ପାନୀ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ସାମଗ୍ରୀର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟକାରିତାକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଥିବା ଅଭିନବ ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ। ସେମାନଙ୍କର ଏକ ଆକର୍ଷଣୀୟ ଉତ୍ପାଦ ହେଉଛିSILIKE ସିଲିକନ୍ ମାଷ୍ଟରବ୍ୟାଚ୍ LYSI-413,ଏକ ଅତ୍ୟନ୍ତ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ପେଲେଟାଇଜଡ୍ ଫର୍ମୁଲେସନ୍ ଯେଉଁଥିରେ 25% ଅଲ୍ଟ୍ରା-ହାଇ ଆଣବିକ ଓଜନ ସିଲୋକ୍ସେନ୍ ପଲିମର ଥାଏ ଯାହା ପଲିକାର୍ବୋନେଟ୍ (PC) ରେ ବିଛାଡ଼ି ଯାଇଥାଏ। ଏହି ସିଲିକନ୍-ଆଧାରିତ ଆଡିଟିଭ୍ PC-ସୁସଙ୍ଗତ ରେଜିନ୍ ସିଷ୍ଟମ୍ ପାଇଁ ବିଶେଷ ଭାବରେ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ। ଏହା ରେଜିନ୍ର ପ୍ରବାହକୁ ବୃଦ୍ଧି କରି, ମୋଲ୍ଡ ଫିଲିଂ ଏବଂ ରିଲିଜ୍ ସୁବିଧା କରି, ଏକ୍ସଟ୍ରୁଡର ଟର୍କକୁ ହ୍ରାସ କରି, ଘର୍ଷଣ ଗୁଣାଙ୍କକୁ ହ୍ରାସ କରି ଏବଂ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ମାର୍ ଏବଂ ଘୃଣା ପ୍ରତିରୋଧ ପ୍ରଦାନ କରି ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଗୁଣ ଏବଂ ପୃଷ୍ଠ ଗୁଣବତ୍ତା ଉନ୍ନତ କରେ। ଏହା ସହିତ, ଏହି ସିଲୋକ୍ସେନ୍-ଆଧାରିତ ମାଷ୍ଟରବ୍ୟାଚ୍ ଏକ ଆଣ୍ଟି-ସ୍କ୍ରାଚ୍ ଆଡିଟିଭ୍ ଭାବରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ, ଏହାକୁ PC ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର ସ୍କ୍ରାଚ୍ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ବୃଦ୍ଧି କରିବା ଏବଂ ଶେଷରେ ସେମାନଙ୍କର ସାମଗ୍ରିକ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ସମାଧାନ କରିଥାଏ।
2. ନାନୋଟେକ୍ନୋଲୋଜି ସହିତ UV-ନିରାକରଣୀୟ କଠିନ ଆବରଣ
ଉନ୍ନତ ସିଲୋକ୍ସେନ-ଆଧାରିତ କିମ୍ବା ହାଇବ୍ରିଡ୍ ଜୈବିକ-ଅଜୈବିକ କଠିନ ଆବରଣ ପ୍ରୟୋଗ କରନ୍ତୁ (ଯଥା, ମୋମେଣ୍ଟିଭ୍ ସିଲଫୋର୍ଟ AS4700 କିମ୍ବା PPG ର DuraShield)। ଏହି ଆବରଣଗୁଡ଼ିକ 7H-9H ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ପେନସିଲ୍ କଠିନତା ହାସଲ କରେ, ଯାହା ସ୍କ୍ରାଚ୍ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରେ।
ଘର୍ଷଣ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଆହୁରି ବୃଦ୍ଧି କରିବା ପାଇଁ ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ସ (ଯଥା, ସିଲିକା କିମ୍ବା ଜିରକୋନିଆ) ସହିତ UV-ନିରାକରଣୀୟ ଆବରଣ ସାମିଲ କରନ୍ତୁ।
ଲାଭ: ସ୍କ୍ରାଚ୍, ରାସାୟନିକ ପଦାର୍ଥ ଏବଂ UV ହ୍ରାସ ବିରୁଦ୍ଧରେ ଏକ ସୁରକ୍ଷା ପ୍ରତିବନ୍ଧକ ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଏବଂ ଅଟୋମୋଟିଭ୍ ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ।
ପ୍ରୟୋଗ: ସମାନ ଘନତା (5-10 µm) ପାଇଁ ଡିପ୍-କୋଟିଂ, ସ୍ପ୍ରେ-କୋଟିଂ, କିମ୍ବା ପ୍ରବାହ-କୋଟିଂ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ।
3. ନାନୋକମ୍ପୋଜିଟ୍ ଶକ୍ତି ବୃଦ୍ଧି
ପିସି ମାଟ୍ରିକ୍ସରେ ନାନୋସିଲିକା, ଆଲୁମିନା, କିମ୍ବା ଗ୍ରାଫିନ ଅକ୍ସାଇଡ୍ (ଓଜନ ଅନୁସାରେ 0.5-2%) ପରି ନାନୋଫିଲରଗୁଡ଼ିକୁ ଯୋଡନ୍ତୁ। ଯଦି କଣିକା ଆକାର <40 nm ହୁଏ, ତେବେ ଏଗୁଡ଼ିକ ପୃଷ୍ଠ କଠିନତା ବୃଦ୍ଧି କରେ ଏବଂ ସ୍ୱଚ୍ଛତାକୁ ଉଲ୍ଲେଖନୀୟ ଭାବରେ ପ୍ରଭାବିତ ନକରି ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଉନ୍ନତ କରେ।
ଉଦାହରଣ: ଅଧ୍ୟୟନରୁ ଜଣାପଡିଛି ଯେ ପିସିରେ 1% ନାନୋସିଲିକା ଟାବର ଘୃଣା ପ୍ରତିରୋଧକୁ 20-30% ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ।
ଟିପ୍ସ: ସମାନ ବିସ୍ତାର ସୁନିଶ୍ଚିତ କରିବା ଏବଂ ଏକତ୍ରୀକରଣକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ କମ୍ପାଟିବିଲାଇଜର (ଯଥା, ସାଇଲେନ୍ କପଲିଂ ଏଜେଣ୍ଟ) ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ।
୪. ସନ୍ତୁଳିତ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ପାଇଁ ପିସି ମିଶ୍ରଣ
ପୃଷ୍ଠ କଠିନତା ବୃଦ୍ଧି କରିବା ପାଇଁ PC କୁ PMMA (10-20%) ସହିତ କିମ୍ବା ଉନ୍ନତ କଠିନତା ଏବଂ ପରିଧାନ ପ୍ରତିରୋଧ ପାଇଁ PBT ସହିତ ମିଶ୍ରଣ କରନ୍ତୁ। ଏଗୁଡ଼ିକ PC ର ଅନ୍ତର୍ନିହିତ ପ୍ରଭାବ ଶକ୍ତି ସହିତ ସ୍କ୍ରାଚ୍ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ସନ୍ତୁଳିତ କରେ।
ଉଦାହରଣ: 15% PMMA ସହିତ ଏକ PC/PMMA ମିଶ୍ରଣ ପ୍ରଦର୍ଶନ ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ସ୍ପଷ୍ଟତା ବଜାୟ ରଖିବା ସହିତ ପୃଷ୍ଠ କଠିନତା ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ।
ସତର୍କତା: PCର ତାପଜ ସ୍ଥିରତା କିମ୍ବା କଠିନତାକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ ମିଶ୍ରଣ ଅନୁପାତକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରନ୍ତୁ।
5. ଉନ୍ନତ ପୃଷ୍ଠ ପରିବର୍ତ୍ତନ କୌଶଳ
ପ୍ଲାଜ୍ମା ଚିକିତ୍ସା: ପିସି ପୃଷ୍ଠରେ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସିନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ (SiOxNy) ଭଳି ପତଳା, କଠିନ ଆବରଣ ଜମା କରିବା ପାଇଁ ପ୍ଲାଜ୍ମା-ଉନ୍ନତ ରାସାୟନିକ ବାଷ୍ପ ଜମା (PECVD) ପ୍ରୟୋଗ କରନ୍ତୁ। ଏହା ସ୍କ୍ରାଚ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ପିନ୍ଧିବା ଗୁଣକୁ ଉନ୍ନତ କରେ।
ଲେଜର ଟେକ୍ସଚରିଂ: ସମ୍ପର୍କ କ୍ଷେତ୍ରକୁ ହ୍ରାସ କରିବା ଏବଂ ସ୍କ୍ରାଚ୍ ବିସ୍ତାର କରିବା ପାଇଁ ପିସି ପୃଷ୍ଠରେ ମାଇକ୍ରୋ- କିମ୍ବା ନାନୋ-ସ୍କେଲ ଟେକ୍ସଚର ସୃଷ୍ଟି କରନ୍ତୁ, ଯାହା ସୌନ୍ଦର୍ଯ୍ୟପୂର୍ଣ୍ଣ ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱକୁ ଉନ୍ନତ କରିବ।
ଲାଭ: ଟେକ୍ସଚରିଂ ଦ୍ୱାରା ହାଇ-କଣ୍ଟାକ୍ଟ ଆପ୍ଲିକେସନ୍ଗୁଡ଼ିକରେ ଦୃଶ୍ୟମାନ ସ୍କ୍ରାଚ୍ଗୁଡ଼ିକୁ 40% ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ହ୍ରାସ କରାଯାଇପାରିବ।
6. ସମନ୍ୱୟ ପାଇଁ ଯୋଗକ ମିଶ୍ରଣ
ସିନର୍ଜିଷ୍ଟିକ୍ ପ୍ରଭାବ ପାଇଁ PTFE (ପଲିଟେଟ୍ରାଫ୍ଲୋରୋଇଥିଲିନ୍) ମାଇକ୍ରୋପାଉଡର (0.5-1%) ପରି ଅନ୍ୟାନ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଆଡିଟେଭ୍ ସହିତ ସିଲିକନ୍ ଆଡିଟେଭ୍ ମିଶ୍ରଣ କରନ୍ତୁ। PTFE ଲୁବ୍ରିସିଟି ବୃଦ୍ଧି କରେ, ଯେତେବେଳେ ସିଲିକନ୍ ଧାରଣ ପ୍ରତିରୋଧକୁ ଉନ୍ନତ କରେ।
ଉଦାହରଣ: 2% ସିଲିକନ୍ ମାଷ୍ଟରବ୍ୟାଚ୍ ଏବଂ 0.5% PTFE ର ମିଶ୍ରଣ ସ୍ଲାଇଡିଂ ପ୍ରୟୋଗରେ ପରିଧାନ ହାରକୁ 25% ହ୍ରାସ କରିପାରିବ।
7. ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ଡ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ସର୍ତ୍ତାବଳୀ:
ଆଡିଟିଭ୍ ଏବଂ ଫିଲରଗୁଡ଼ିକୁ ସମାନ ଭାବରେ ବିସ୍ତାର କରିବା ପାଇଁ ହାଇ-ସିଅର୍ କମ୍ପାଉଣ୍ଡିଂ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ। ଅବନତିକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ ପିସି ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ତାପମାତ୍ରା (260-310°C) ବଜାୟ ରଖନ୍ତୁ।
ସ୍କ୍ରାଚ୍ ଆରମ୍ଭ କରିପାରୁଥିବା ପୃଷ୍ଠ ଦୋଷକୁ କମ କରିବା ପାଇଁ ସଠିକ୍ ମୋଲ୍ଡିଂ କୌଶଳ (ଯଥା, ପଲିସ୍ ହୋଇଥିବା ମୋଲ୍ଡ ସହିତ ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ମୋଲ୍ଡିଂ) ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତୁ।
ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଚାପରୁ ମୁକ୍ତି ପାଇଁ, ଦୀର୍ଘକାଳୀନ ପିନ୍ଧା କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଆନିଏଲ୍ ୧୨୦-୧୩୦° ସେଲ୍ସିୟସ୍ ତାପମାତ୍ରାରେ ଅଂଶଗୁଡ଼ିକୁ ଛାଞ୍ଚିତ କରିଥିଲା।
ଇନୋଭେସନ୍ ୱାଚ୍: ଆତ୍ମ-ଉପଚାର ଏବଂ DLC ଆବରଣ ବୃଦ୍ଧି ପାଉଛି
ଉଦୀୟମାନ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଯେପରିକି ସ୍ୱୟଂ-ନିରାମୟ ଆବରଣ (ପଲିୟୁରେଥାନ୍ କିମ୍ବା ସିଲୋକ୍ସେନ ରସାୟନ ଉପରେ ଆଧାରିତ) ଏବଂ ହୀରା ପରି କାର୍ବନ (DLC) ଆବରଣଗୁଡ଼ିକ ଅତ୍ୟଧିକ ସ୍ଥାୟୀ, ଉଚ୍ଚ-ସ୍ପର୍ଶ ପିସି ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଭବିଷ୍ୟତ-ପ୍ରମାଣ ସମାଧାନ ପ୍ରଦାନ କରେ। ଯଦିଓ ଗଣ-ବଜାର ଉତ୍ପାଦ ପାଇଁ ମୂଲ୍ୟ-ନିରୋଧୀ, ଏହି ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟାଗୁଡ଼ିକ ବିଳାସପୂର୍ଣ୍ଣ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, ଅଟୋମୋଟିଭ୍ ଏବଂ ଏରୋସ୍ପେସରେ ପ୍ରତିଶ୍ରୁତି ଦେଖାଏ।
ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ଥର୍ମୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ସରେ ସର୍ବୋତ୍ତମ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ପାଇଁ ସୁପାରିଶ କରାଯାଇଥିବା ପଦ୍ଧତି
ପିସି ପୃଷ୍ଠର ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ବ୍ୟବହାରିକ, ସ୍କେଲେବଲ୍ ସମାଧାନ ଖୋଜୁଥିବା ନିର୍ମାତାମାନଙ୍କ ପାଇଁ, ଆମେ ସୁପାରିଶ କରୁଛୁ:
୧)ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ଲୁବ୍ରିସିଟି ପାଇଁ 2% UHMW ସିଲିକନ୍ ଆଡିଟିଭ୍
୨) ପୃଷ୍ଠ କଠିନତା ପାଇଁ ସିଲୋକ୍ସେନ-ଆଧାରିତ UV ଆବରଣ + ୧% ନାନୋ ସିଲିକା
୩) ସ୍କ୍ରାଚ୍ ଲୁଚାଇବା ପାଇଁ ଲେଜର ମୋଲ୍ଡିଂ ମାଧ୍ୟମରେ ମାଇକ୍ରୋ-ଟେକ୍ସଚରିଂ
ଏହି ତ୍ରି-ମୁଖୀ ପଦ୍ଧତି ମୂଲ୍ୟ-ଦକ୍ଷତା, ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ସୁସଙ୍ଗତତା ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାର ଏକ ସନ୍ତୁଳନ ପ୍ରଦାନ କରେ, ଏହାକୁ ଦୈନନ୍ଦିନ ପିନ୍ଧାଯାଉଥିବା ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ ଏବଂ ଦୀର୍ଘସ୍ଥାୟୀ ସୌନ୍ଦର୍ଯ୍ୟ ଆବଶ୍ୟକ କରିଥାଏ।
ଶିଳ୍ପ ପ୍ରମାଣିତ
MarketsandMarkets ର 2024 ରିପୋର୍ଟ ଅନୁଯାୟୀ, ଅଟୋମୋଟିଭ୍ ଡିସପ୍ଲେ, ମୋବାଇଲ୍ ଡିଭାଇସ୍ ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଲେନ୍ସରେ ସ୍କ୍ରାଚ୍-ପ୍ରତିରୋଧୀ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ପାଇଁ ବଢ଼ୁଥିବା ଚାହିଦା ଯୋଗୁଁ 2027 ସୁଦ୍ଧା ବିଶ୍ୱ କଠିନ ଆବରଣ ବଜାର $1.3 ବିଲିୟନ ଅତିକ୍ରମ କରିବ ବୋଲି ଆକଳନ କରାଯାଇଛି। ମଲ୍ଟିଫଙ୍କସନ୍ ଆଡିଟିଭ୍ସ ଏବଂ ନାନୋ-ଫିଲରଗୁଡ଼ିକୁ ସମନ୍ୱିତ କରୁଥିବା ସାମଗ୍ରୀ ଫର୍ମୁଲାଟର୍ ଏବଂ କମ୍ପାଉଣ୍ଡର୍ ସ୍ଥାୟୀ ପିଡି-ଆଧାରିତ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର ପରବର୍ତ୍ତୀ ପିଢ଼ିକୁ ନେତୃତ୍ୱ ଦେବା ପାଇଁ ଭଲ ଭାବରେ ଅବସ୍ଥିତ।
ଭଲ ସ୍କ୍ରାଚ୍ ଏବଂ ପିନ୍ଧିବା ପ୍ରତିରୋଧ ସହିତ PC ପରି ଆପଣଙ୍କର ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍କୁ ବୃଦ୍ଧି କରିବାକୁ ପ୍ରସ୍ତୁତ କି?
SILIKE ଏକ୍ସପ୍ଲୋର୍ କରନ୍ତୁପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ମିଶ୍ରଣଆପଣଙ୍କର ସ୍ଥାୟୀତ୍ୱ ଚାହିଦା ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ଏବଂ ପୃଷ୍ଠ ଗୁଣଗୁଡ଼ିକୁ ବୃଦ୍ଧି କରୁଥିବା ସମାଧାନ।
For further information, please visit our website at www.siliketech.com, or contact us at Tel: +86-28-83625089 or via email at amy.wang@silike.cn. we provide ଦକ୍ଷ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ସମାଧାନ।
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁଲାଇ-୦୨-୨୦୨୫
